加熱制冷循環(huán)槽，又稱低溫恒溫浴槽，是自帶制冷和加熱的高精度恒溫源，兼具小型冷水機的功能。
廣泛應用于石油、化工、冶金、醫(yī)藥、生化、物性，測試及化學分析等研究部門、高等院校、工廠實驗室及計量質檢部門。
根據(jù)槽開口尺寸的不同，可在浴槽內進行恒溫實驗，亦可通過軟管與其他設備相連接，與恒溫源配套使用。
內循環(huán)：通過泵對槽內液體介質的循環(huán)吞吐，增加槽內溫度的均勻性，減少溫度波動。
外循環(huán)：通過泵的循環(huán)能力，利用出水口將保溫軟管與外部設備連接，形成封閉回路，流回設備進水口，是將槽內恒溫介質外引，建立外部恒溫場。
循環(huán)水恒溫的應用領域：
生化領域：旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。
材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、各種半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。
醫(yī)療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。
物化領域：激光器、磁場、各種分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。使用的各種需水冷設備。
產品特點：
節(jié)約能源——在夏季和高環(huán)境溫度下，冷卻水可在系統(tǒng)回路中循環(huán)使用，節(jié)約大量的水資源。
效率更高——一臺循環(huán)水設備可同時滿足多臺外部設備的冷卻需求，持續(xù)提供低溫恒溫水源，適用于冷凝實驗。
控溫精度——PID控溫技術，內置PT100傳感器、控溫精度高，溫度數(shù)字顯示，操作直觀
安全性高――具有自我診斷功能；冷凍機過載保護等多種安全保障功能。
低溫不凍液配比
A乙二醇水溶液：乙二醇/水 55/45 （－30℃）、70/30 （－40℃）
B丙三醇水溶液：丙三醇/水 70/30 （－30℃）
使用中需經常檢查低溫不凍液的密度使其滿足如下要求：
1.乙二醇水溶液：P20=1079㎏/m3 （－30℃）（－40℃）
2.丙三醇水溶液：P20=1182.6㎏/m3 （－30℃）不凍液用水代替時，其最低溫度必須在0℃以上。
冷卻水選型相關：
通常，制冷能力在1000W以下機型小型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛運用小功率激光器、平行蒸發(fā)儀、平行定量濃縮儀、平行反應器、蒸餾儀等實驗室冷凝裝置等。
制冷能力在6000W以下中型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于AAS、ICP、ICP-MS、電鏡等分析儀器行業(yè)，旋轉蒸發(fā)儀、索氏提取、固液萃取儀、凱氏定氮儀等實驗室設備，激光打標機、激光切割機等激光儀器及機床行業(yè)。
制冷能力在10KW以上大型循環(huán)水冷卻恒溫器廣泛應用于X－衍射儀、磁質譜儀、疲勞試驗機、真空鍍膜機、塑料成形設備、激光切割機、X－熒光光譜儀、紅外光譜儀、差熱分析儀、核磁共振等具有高制冷恒溫要求設備。
應用范圍：
對半導體制造裝置發(fā)熱部的冷卻：單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
對激光裝置發(fā)熱部分的冷卻：激光加工、熔接機的發(fā)熱部分、激光標志裝置、發(fā)生裝置、二氧化碳激光加工機等。
其他產業(yè)用機器發(fā)熱部分的冷卻：等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
分析檢測機器的發(fā)熱部分的冷卻：電子顯微鏡的光源、ICP發(fā)光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發(fā)熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發(fā)熱部分原子吸光光度計的光源等。水箱可用優(yōu)質的純凈水在機內外循環(huán)冷卻，可保證對水質要求較高的精密儀器的正常運行，延長精密儀器的使用壽命。
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