80Plus-RIE等離子設(shè)備性能特點(diǎn)
英國(guó)牛津 等離子設(shè)備- Plasmalab 80Plus系列產(chǎn)品介紹
Plasmalab 80Plus是我公司專(zhuān)門(mén)為大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的小型化產(chǎn)品，被廣泛的應(yīng)用于各種產(chǎn)品的研發(fā)以及小批量生產(chǎn)。它配置了直接開(kāi)啟式工藝平臺(tái)，可以根據(jù)客戶需要將它配置成RIE（反應(yīng)離子刻蝕）、PE（等離子刻蝕）、PECVD（等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積）或ICP（感應(yīng)耦合等離子高密度刻蝕）等模式，應(yīng)用非常靈活。
Plasmalab 80Plus系列 - RIE（反應(yīng)離子刻蝕）配置產(chǎn)品介紹
典型應(yīng)用：
- InP、GaAs、GaN等三五族材料的刻蝕
- SiO2，SiNx刻蝕
- 各種金屬刻蝕
80Plus系列 - RIE（反應(yīng)離子刻蝕）配置產(chǎn)品主要配置：
- 硬件和工藝全程自動(dòng)化控制的基于Windows NT的PC2000控制軟件，全部硬件和工藝均由計(jì)算機(jī)來(lái)控制，操作非常簡(jiǎn)便
- RIE工藝真空腔，帶有單個(gè)觀察窗以及160mm直徑大抽氣管路，保證反應(yīng)的副產(chǎn)物可以及時(shí)排出
- 205mm或240mm直徑的溫度可以調(diào)節(jié)的下電極，每批最大處理能力為9x2”、4x3”、2x4”、1x6”、1x8”
- 13.56MHz,30/300W的射頻電源以及緊耦合、低損耗的自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)（Close-coupled Automatic Matching Network），更加保證了工藝的重復(fù)性
- 控制工藝氣體流量及配比的外部Gas Pod，最多可配置6路氣體管路，大大節(jié)約了凈化間的面積
- 反應(yīng)室真空壓力自動(dòng)控制系統(tǒng)（APC CM Gauge），保證工藝過(guò)程壓力的穩(wěn)定
- 大抽速防腐蝕機(jī)械泵和分子泵泵組，可以快速的達(dá)到工藝試驗(yàn)所需的真空環(huán)境
80Plus系列 - RIE（反應(yīng)離子刻蝕）配置產(chǎn)品選配件：
- 激光干涉終點(diǎn)控制系統(tǒng)(End Point Detector)，可以精確控制刻蝕的深度
- 65mm直徑的ICP電源，可以大大提高產(chǎn)品的刻蝕速率同時(shí)減小刻蝕對(duì)產(chǎn)品的損傷
- 氮?dú)馐痔紫?Glove Box)配置，可以防止腐蝕性氣體對(duì)真空配件的腐蝕
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