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TY1080Plus-PECVD等離子設(shè)備ZX21

TY10

80Plus-PECVD等離子設(shè)備

ZX21
80Plus-PECVD等離子設(shè)備
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英國(guó)牛津 等離子設(shè)備- Plasmalab 80Plus系列產(chǎn)品介紹

Plasmalab 80Plus是我公司專門為大學(xué)及研究機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)的小型化產(chǎn)品,被廣泛的應(yīng)用于各種產(chǎn)品的研發(fā)以及小批量生產(chǎn)。它配置了直接開啟式工藝平臺(tái),可以根據(jù)客戶需要將它配置成RIE(反應(yīng)離子刻蝕)、PE(等離子刻蝕)、PECVD(等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)或ICP(感應(yīng)耦合等離子高密度刻蝕)等模式,應(yīng)用非常靈活。

Plasmalab 800Plus系列 - PECVD(等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)配置產(chǎn)品介紹

典型應(yīng)用:

大批量、高質(zhì)量SiO2, SiNx 薄膜的生長(zhǎng) NH3 Free SiNx(不含H的SiNx)薄膜的生長(zhǎng)

PECVD(等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)配置主要配置: 硬件和工藝全程自動(dòng)化控制的基于Windows NT的PC2000控制軟件,全部硬件和工藝均由計(jì)算機(jī)來控制,操作非常簡(jiǎn)便 PECVD大型工藝真空腔 460mm直徑可加熱到400℃或700℃的下電極,充分滿足了大批量生產(chǎn)的需要 13.56MHz,600W的射頻電源以及緊耦合、低損耗的自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)(Close-coupled Automatic Matching Network),更加保證了工藝的重復(fù)性 控制工藝氣體流量及配比的外部Gas Pod,最多可配置6路氣體管路,大大節(jié)約了凈化間的面積 反應(yīng)室真空壓力自動(dòng)控制系統(tǒng)(APC CM Gauge),保證工藝過程壓力的穩(wěn)定 大抽速防腐蝕機(jī)械泵和羅茲泵泵組,可以快速的達(dá)到工藝試驗(yàn)所需的真空環(huán)境

PECVD(等離子增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積)配置選配件: 雙頻控制系統(tǒng),大大降低薄膜的應(yīng)力 光發(fā)射(Optical emission)終點(diǎn)控制,使真空腔的日常維護(hù)變得更為簡(jiǎn)單 ICP-CVD配置,可以在低壓力下生長(zhǎng)薄膜,從而降低對(duì)器件的損傷 干泵配置令設(shè)備維護(hù)更為簡(jiǎn)單
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80Plus-PECVD等離子設(shè)備

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