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TY10Optofab3000離子束設備ZX21

TY10

Optofab3000離子束設備

ZX21
Optofab3000離子束設備
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英國牛津 離子束設備 - Optofab3000介紹

專為DWDM器件設計的Optofab3000系統(tǒng),使DWDM鍍膜成為一項簡單的事情

Optofab3000:制作DWDM光濾波器的離子束濺射沉積系統(tǒng)

迅速增長的光通信業(yè)務流量對通信帶寬和容量提出了越來越高的要求。光器件廠商需要生產能力大產量高的加工系統(tǒng)。離子束濺射沉積是生產高質量、高精度光學薄膜的最佳選擇。Optofab3000系統(tǒng)是一個基于已成熟的Ionfab300plus系統(tǒng)之上的組合式的離子束系統(tǒng),可以進行高質量的刻蝕和沉積加工。在高性能光學器件市場中,牛津儀器等離子體技術設備公司已經成為全球領先的離子束沉積系統(tǒng)生產商。典型的應用包括DWDM 濾波器、分插復用器、增益平坦濾波器和抗反射薄膜等。

Optofab3000更高的沉積速率

Optofab3000系統(tǒng)由于改進了離子光學/系統(tǒng)幾何結構,同時具有高速率的離子源,因此具有較高的沉積速率。其離子源是15cm的射頻源,具有三個碟形鉬柵格的設計。這種新的設計具有柵格形狀穩(wěn)定、離子束形狀可控制等特點,可以實現(xiàn)高速均勻沉積。該系統(tǒng)還配有長壽命的中和器,從而保證穩(wěn)定的操作以及束流和靶的有效中和。

材料        450mA下的沉積速率    折射率
sio2        3.0A/secs                 1.465
Ta2o5     >3.35 A/secs            2.065
 
Optofab3000更好的膜均勻性
 
DWDM濾波器對于膜層的均勻性和重復性要求很高。Optofab3000自身的膜層均勻性可以達到<±1%,使用均勻性掩膜可以將膜層的均勻性進一步提高到±0.1%以下。
 
Optofab3000層間均勻性
 
高速旋轉的襯底托盤可以保證層間均勻性。我們獨特的設計基于托盤的特點:它可以放置直徑8",
厚度6mm的襯底。
 
Optofab3000光學薄膜厚度控制
 
對于沉積系統(tǒng)來說,是否能夠沉積高精度的多層膜變得越來越重要。為了確保每一層膜準確的光學厚度,以及濾波器具有所需的光學特性,使用光學監(jiān)測器是必要的。系統(tǒng)利用光學厚度監(jiān)測器來控制所需要的光譜特性,而不只是控制薄膜的厚度。在工藝過程中,監(jiān)測器可以根據(jù)預設的濾波器的特性發(fā)出指令來改變相應的膜層。這樣就實現(xiàn)了系統(tǒng)的智能過程控制,從而可以補償工藝精度的偏差。
 
Optofab3000襯底操作
 
Optofab3000配置了單片襯底鎖定進樣裝置,可以進行連續(xù)加工而不破壞真空。系統(tǒng)的大
部分設計都調整到允許長期處于真空狀態(tài),
從而進一步提高工藝過程的穩(wěn)定性。
 
Optofab3000系統(tǒng)尺寸
 
Optofab3000采用組合式的系統(tǒng)設計。在需要安裝多個系統(tǒng)的應用環(huán)境下,可以為用戶節(jié)約很大的成本。該系統(tǒng)底座很?。ㄐ∮?平方米),比同類型的系統(tǒng)更能節(jié)省超凈間空間。而且由于其反應室較小,只需要使用型真空泵,因此可以降低運行成本。
 
 
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